光刻机，光刻机是用来做什么的

本文目录一览

1，光刻机是用来做什么的
2，光刻机的分类
3，光刻机的介绍
4，光刻机的性能指标
5，光刻机是生产CPU的么
6，中国哪家的光刻机功能性能最好

1，光刻机是用来做什么的

在光盘表面绣花的机器.有一种光盘,可以把图案印在盘表面上,就需要用到这种"光雕机".这与存数据的刻录机是另一回事.

光刻机是用来做什么的

2，光刻机的分类

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动A 手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；B 半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；C 自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要，恩科优的NXQ8000系列可以一个小时处理几百片wafer。

光刻机的分类

3，光刻机的介绍

光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography（光刻）意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

相信自己的判断吧再看看别人怎么说的。

光刻机的介绍

4，光刻机的性能指标

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

光刻机的主要性能指标有：1、支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。2、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。3、光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。4、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。5、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。6、曝光光源波长为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

5，光刻机是生产CPU的么

光刻机是生产CPU的重要设备，但是并不是只能用于生产CPU。实际上，光刻机是半导体工艺非常重要的生产设备，用于将理论设计的电路制作到真实的Si级片上，并最终获得集成电路。所有大规格和超大规模集成电路，都会使用到光刻机，这其中当然包括CPU，也包括GPU，单片机芯片等等各种半导体芯片。有兴趣，百度百科的相关词条，有更详细的内容供参考。

不是，主流的英特尔处理器会有20亿个晶体管，高端产品可以达到60亿个，一个个的链接方法不现实，所以采用光刻蚀技术。光刻蚀过程就是使用一定波长的光在感光层中刻出相应的刻痕，由此改变该处材料的化学特性。这项技术对于所用光的波长要求极为严格，需要使用短波长的紫外线和大曲率的透镜。刻蚀过程还会受到晶圆上的污点的影响。每一步刻蚀都是一个复杂而精细的过程。设计每一步过程的所需要的数据量都可以用10GB的单位来计量，而且制造每块处理器所需要的刻蚀步骤都超过20步（每一步进行一层刻蚀）。而且每一层刻蚀的图纸如果放大许多倍，可以和整个纽约市外加郊区范围的地图相比，甚至还要复杂。当这些刻蚀工作全部完成之后，晶圆被翻转过来。短波长光线透过石英模板上镂空的刻痕照射到晶圆的感光层上，然后撤掉光线和模板。通过化学方法除去暴露在外边的感光层物质，而二氧化硅马上在陋空位置的下方生成。

光刻机的作用是蚀刻芯片的功能及线路，当然也包括了制造处理器这样的大规模集成电路或者内存颗粒、闪存颗粒等等。--光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴芯片；以及利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。

用于在硅片上蚀刻集成电路的，用于生产制造半导体芯片，包括但不局限于CPU。

6，中国哪家的光刻机功能性能最好

上海微电子装备有限公司的步进式扫描光刻机吧，估计是中国最先进的了。SSA600/20 步进扫描投影光刻机采用0.75数值孔径和四倍缩小倍率的ArF投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，实现可用于前道IC制造90nm关键层和非关键层的先进光刻设备。此外，该设备通过采用多种可供选择的先进专利照明技术，并配合其他分辨率增强技术，能够满足客户高于90nm分辨率的生产需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。本人亲自用过，号称能有90nm分辨率但是实际使用情况看2um还是能达到的。6寸、8寸、12寸都能生产，人际界面良好，效率还算可以，跟国外同类型机器相比故障率稍高。

苏州印象镭射科技有限公司生产的光刻机不但分辨率高，可达2540dpi,而且光刻速度快，最快可达1000点/秒。当今流利的一些防伪镭射技术都可制作。该公司与苏州大学合作，有专业的研发队伍，可不断研制新的防伪技术。他们生产的光刻机性能稳定，可靠，能持续工作很长时间。功能强大，能防止意外断电带来的不良后果。上机文件格式为bmp,可用任何绘图软件转化而成。目前该公司主要有3种光刻机：1）小光刻机，有效面积为150mmX150mm.2)中光刻机，有效面积为400x400mm.3)大光刻机，有效面积为800mm x 1000mm. 可根据客户的要求量身定制。该公司还可生产拼版机，电铸机等一系列镭射相关产品。 Tel: 0086-0512-67077898 QQ: 576950417

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