湿法刻蚀，湿法刻蚀

本文目录一览

1，湿法刻蚀
2，硅片的湿法刻蚀
3，湿法刻蚀 WET
4，库特勒湿法刻蚀如优化对开压电流提升最大
5，什么是湿法刻蚀
6，湿法蚀刻的精度高了有什么好处

1，湿法刻蚀

它和很难控制它的精确尺寸，过刻蚀率难以控制。

湿法刻蚀

2，硅片的湿法刻蚀

用HF:HNO3=6:1试试看

搜一下：硅片的湿法刻蚀

硅片的湿法刻蚀

3，湿法刻蚀 WET

在保障措施好的情况下，注意通风，配置防护装置，防止化学品泄漏装置如防泄漏槽，沙子，沙袋，专用灭火器。一般湿法蚀刻大多是酸性蚀刻，也有一些是碱性蚀刻。接触的药品会很多，盐酸，硫酸，氢氧化钠，碳酸钠，双氧水，还有很多酸碱的清洗液。

湿法刻蚀 WET

4，库特勒湿法刻蚀如优化对开压电流提升最大

先一定要保证水平，然后注意刻蚀前后方块电阻提升量稳定。

先保证提升后的均匀性吧，一搞串联就开始飞了。

这个一分价钱一分货嘛，如果调好的话，至少有可能可以做的比RENA高

5，什么是湿法刻蚀

这是传统的刻蚀方法。把硅片浸泡在一定的化学试剂或试剂溶液中，使没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜表面与试剂发生化学反应而被除去。例如,用一种含有氢氟酸的溶液刻蚀二氧化硅薄膜，用磷酸刻蚀铝薄膜等。这种在液态环境中进行刻蚀的方法称为“湿法”刻蚀。它的优点操作简便；对设备要求低；易于实现大批量生产；刻蚀的选择性好。化学反应的各向异性较差，横向钻蚀使所得的刻蚀剖面呈圆弧形，很难做到精确控制图形。湿法刻蚀的另一问题，是抗蚀剂在溶液中，特别在较高温度的溶液中易受破坏而使掩蔽失效，因而对于那些只能在这种条件下刻蚀的薄膜必须采用更为复杂的掩蔽方案。

6，湿法蚀刻的精度高了有什么好处

蚀刻分有湿法蚀刻（wetetch）和干法蚀刻（dryetch）湿蚀刻就是利用合适的化学溶液腐蚀去除材质上未被光阻覆盖（感光膜）的部分，达到一定的雕刻深度。蚀刻精度高，则可以完成精度要求更高的精细零件的加工，扩大蚀刻应用的范围。蚀刻特点： 1、改变了机械加工金属零件使用车、冲等传统方式； 2、对各种金属、合金、不锈钢平面零件的精细加工，大到传统行业设备使用的大面积微孔滤网，小到眼睛几乎很难以分辨的细微零件； 3、生产过程无外力冲击、不变形、平整度好；生产周期短、应变快、不需模具的设计、制造；产品无毛刺、无凸起、两面一样光、一样平； 4、按图红加工平面凹凸型的金属材料制品，如：文字、数字及复杂图型、图案。制造各种精密的，任意形状的通孔零件。