比亚迪开发7nm芯片和7nm光刻机，1。ASML光刻机在中国的高端光刻机是7nm光刻机，光刻机中只有ASML能生产7nmEUV，据说ASML准备生产5纳米光刻机，但是在国内市场，居然有7nm光刻机，正是在上海微电子的90nm制程光刻机下线后，ASML决定为SMIC提供7nm光刻机，其秘密可想而知。
为什么现在7纳米极限的半导体工艺被打破了？此前媒体报道7nm工艺技术是最接近硅基半导体技术物理极限的技术。后来媒体报道7nm工艺不是半导体工艺的极限，5nm工艺和3nm工艺次之，5nm工艺和3nm工艺没有突破硅半导体工艺的极限。极限原本是一个数学术语，广义的极限是“无限接近，永远达不到”的意思。
芯片上晶体管太多，晶体管的栅极控制着电流能否从源极流向漏极。晶体管的源极和漏极基于硅连接。随着晶体管的尺寸逐渐减小，源极和漏极之间的沟道也会缩短。当沟道缩短到一定程度，量子隧穿效应会变得更容易。晶体管将失去开关的功能，逻辑电路将不复存在。
众所周知，光刻机领域的大佬是荷兰公司ASML (ASML)，该公司已经占据了全球光刻机市场80%的份额。中国上海微电子有限公司研发生产光刻机，但是差距有点大。华为目前还没有研发自己的光刻机。下面我来详细说说。1.光刻机ASML在国内的高端光刻机为7nm光刻机，光刻机中只有ASML能生产7 nm 7nmEUV。据说ASML准备生产5纳米光刻机。
正是在上海微电子的90nm制程光刻机下线后，ASML决定为SMIC提供7nm光刻机，其秘密可想而知。上海微电子与ASML在光刻机方面的差距客观反映了中国与西方在精密制造领域的差距。ASML顶级7nmEUV光刻机的关键部件来自不同的西方国家，如美国光栅、德国镜片、瑞典轴承、法国阀门等。这些顶级零件都是对中国禁运的，所以ASML说，“就算给你全套图纸，你也做不出来。”
3、7nm的poly为啥一根线生产过程中出现了问题。解释了如何在7nm工艺中通过光刻实现每个特征尺寸，而没有讨论7nm工艺中的其他应变硅技术和HKMG技术。首先我们来看看7nm工艺的特征尺寸和工艺参数，找出最小的特征尺寸，比如finwidth6nm，finpitch27/30nm，gatelength8/10nm，minimummetalpatch 36/40nm，gatepitch54/57nm。我们需要考虑的是如何通过光刻实现这些特征尺寸。
4、一台ASML7纳米光刻机月产能有多大?生产芯片有多难？一台7纳米光刻机的月产量是多少？我今天学到了很多。Mask光刻机的ASML7 nm月产量只能达到几万。因为这种纳米光刻机包含的科技是高超的。所以很难被量产。模式1 NXE: 3400 B月产能达到0片。型号2 NXE:3400C，月产量0片。一天24小时运行，月生产能力约为9.8亿美元。当然，这只是大概的数据。
预览:高清多图，信息量大，需要细细品味。先说晶圆和芯片的关系。晶圆是从硅锭(不是龟)上切下的薄片。下图中的长柱只是拉制的硅锭，直径应该是12英寸，高约2米(指站在旁边的人)，重150公斤。下图是硅锭和硅片。特别是你仔细看，会发现下图右侧的晶圆有很多大小，最小的只有一个乒乓球大小(历史上最早的晶圆只有拇指大小)，最大的比一个普通的碟子还要大。
5、对芯片设计者来说,14nm和7nm有什么区别?14nm工艺的晶体管数量将少于7nm工艺。晶体管越多，性能越快，晶体管尺寸越小，集成度越高，数量越多，主频越快。门越小，自然功耗越低，因为电流通过的时间越短，自然速度越快。14nm工艺比7nm工艺简单很多，7nm工艺更复杂。7nm在晶体管数量和目标速度的规划上会高一个层次。芯片的纳米技术是指晶体管之间的电路距离，所以在同样的芯片面积下，7nm的晶体管更多。
6、国产最先进光刻机首先，世界上最先进的国家光刻机已经实现了5nm的目标。这是由荷兰的ASML实现的。ASML不能靠自己完成，而是需要国际合作。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜头是德国蔡司公司的。这也是全球技术的综合作用。第二，中国进口最先进的光刻机，7nm。2018年，SMIC从荷兰ASML公司定制了一款7nm EUV光刻机，当时支付了1.2亿美元的定金。
但是在国内市场，居然有7nm光刻机。2018年12月，SK海力士无锡工厂从中国进口第一台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东。第三，目前国内最先进的光刻机，应该是22nm。据媒体报道，2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨率光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨率达到22 nm。
7、千亿半导体项目终落幕,遣散所有员工,可惜了那台 7nm光刻机不幸的是，就在最近，这个投资1000亿元的半导体项目走到了尽头。它不仅发布了辞退所有员工的通知，还要求所有员工在3月5日前完成离职手续。当然，可惜的是这是mainland China唯一一款完全没开封抵押给银行的7nm高端光刻机！其次，在人员方面，洪欣半导体也是马庄的精兵强将。据悉，武汉洪欣半导体项目的技术总监是芯片行业的大牛江尚义。
更重要的是，公开资料显示，蒋尚义参与了TSMC 90nm、65 nm、40 nm、28 nm、20 nm、6 nm等关键节点的研发，蒋尚义比几百个芯片工程师都厉害。但是现在呢？就在几个月前，姜尚义亲自确认，2021年1月1日正式加盟SMIC，担任SMIC副董事长。这也引发了一场风波。梁梦松博士因姜尚义突然空降而高调辞职，不少网友大呼SMIC“老糊涂”。
8、比亚迪研发7nm芯片和 7nm光刻机,能取代富士康吗?当然不是。即使研发出1nm的光刻机，也无法取代富士康。因为富士康的定位是手机加工厂和组装厂。而掩模对准器正是芯片厂所需要的。据我所知，富士康目前没有芯片制造业务。但我有个想法，如果将来国产光刻机成型，富士康能不能成为芯片厂。作为一家长期的手机组装和零部件组装厂商，有潜力成为这样的公司。实际上，是光罩对准器，不是吗？
我们缺少的是商业化的掩模对准器。现在军队已经进入现代化、信息化模式，军方对芯片的需求非常大。为了保证军队使用，我们很早就开始做芯片，但是军方用的芯片和民用的不一样。制造军用武器不需要考虑成本，因为买家只是军方一方。成本再高也没关系，重要的是绝对保密，绝对可靠，性能不需要太好。而民用芯片对成本和性能有硬性要求。
