光刻法，简述光刻的工艺过程步骤
简述光刻的工艺过程步骤2，光刻技术的种类及介绍3，光刻和刻蚀有什么区别4，科技文献翻译5，光刻曝光技术的主要流程及每个步骤的意义6，光刻技术的原理是什么1，简述光刻的工艺过程步骤1.wafer表面处理；2.旋涂光刻胶（包括抗反射层）3.前烘；4.曝光；5.后烘；6.显影，有的需要在显影前进行坚膜；7.刻蚀2，光刻技术的种类及介绍你可以参看这些资料http://baike.baidu.com/view/359979.htm?fr=ala0_1http://baike.baidu.com/view/111...
更新时间：2023-09-06标签： 光刻法简述光刻的工艺过程步骤 全文阅读