icp刻蚀，感应耦合等离子体刻蚀机工作原理是什么

本文目录一览

1，感应耦合等离子体刻蚀机工作原理是什么
2，LED PSS什么意思
3，求助ICP原理
4，什么是icpaes
5，如何使氧气放电
6，专业技术词汇解释呢

1，感应耦合等离子体刻蚀机工作原理是什么

利用ICP产生高密度等离子体，等离子体中的活性基团或者离子与所需刻蚀的材料发生化学反应，并去除；一般在刻蚀的过程中同时也伴随着物理轰击，并把相应的键能打开，从而加速反应的进程。

感应耦合等离子体刻蚀机工作原理是什么

2，LED PSS什么意思

PSS(Patterned Sapphire Substrate)，俗称图形化衬底，也就是在蓝宝石衬底上生长干法刻蚀用掩膜，用标准的光刻工艺将掩膜刻出图形，利用ICP刻蚀技术刻蚀蓝宝石，并去掉掩膜，再在其上生长GaN材料，使GaN材料的纵向外延变为横向外延。

LED PSS什么意思

3，求助ICP原理

简单的说就是，ICP是金属离子从激发态到基态发射出能量的大小与浓度成正比，从而测定金属的浓度。

微加工中离子耦合刻蚀工艺也叫ICP，不知是不是楼主指的那个。

不知道楼主ICP是不是指的电感耦合等离子体，若是的话可以随便找本原子光谱的书籍，就有讲的。

求助ICP原理

4，什么是icpaes

Inductively Coupled Plasma - Advanced Silicon Etch 电感耦合等离子体深硅刻蚀 Inductively Coupled Plasma - Atomic Emission Spectroscopy 电感耦合等离子体原子发射光谱这个通常简写成ICP-AES，不过在化学里用得多一些